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商业秘密案件中“密专交叉”问题研究——以“专利公开商业秘密”为视角

  • 发布时间:2025-05-19 18:15:00
  • 知产类型: 专利 商标
  • 作者 | 庞力衡 张毅 李雪  北京市东卫律师事务所2025年3月底,高某某涉嫌侵犯商业秘密案庭审正式结束。2023年高某某被长沙市公安机关采取强制措施,被指控涉嫌侵犯某知名企业商业秘密,该案件引起行业广泛关注。该案件属于典型的复杂商业秘密案件,不但涉及刑事诉讼程序,还涉及非常细分的专业领域技术。笔者有感于近年来商业秘密案件中突出体现的一个重要问题,即商业秘密与专利的交叉(简称为“密专交叉”),企业在研发时如何处理好商业秘密与专利的关系,特就这一问题做专门梳理,力求引起创新型企业合规时重视防范相关风险。一、“密专交叉”的起因与认定困境在知识经济时代,技术信息的法律保护呈现出二元化特征:企业既可通过专利制度获得排他性权利,亦可依托商业秘密制度维持竞争优势。然而,两种保护机制的内在逻辑存在根本性冲突。专利制度以“公开换保护”为核心,《中华人民共和国专利法》第二十六条明确规定申请人需“清楚、完整地公开技术方案,以所属技术领域的技术人员能够实现为准”;而商业秘密的保护根基在于“秘密性”的维持,《中华人民共和国反不正当竞争法》第九条将“不为公众所知悉”列为商业秘密的法定构成要件。在此背景下,企业若在专利申请过程中披露技术信息失当,极易导致商业秘密泄露,引发权利竞合与司法认定困境。另外,随着员工流动性的增加,新员工在新单位申请与原单位技术有关的新专利,是否侵犯原单位商业秘密,亦或该新专利是否归... 查看全文 >